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首页 > 供应产品 > 美国microchem SU-8 Developer显影液显影剂光刻胶
美国microchem SU-8 Developer显影液显影剂光刻胶
产品: 浏览次数:642美国microchem SU-8 Developer显影液显影剂光刻胶 
保质期: 36月
产地: 美国
单价: 面议
最小起订量: 1 瓶
供货总量: 100 瓶
发货期限: 自买家付款之日起 天内发货
有效期至: 长期有效
最后更新: 2022-01-19 19:37
 
详细信息
保质期 36月
产地 美国
产品等级 工业级
产品规格 4L
产品名称 显影液
规格 4000ml
化学名 SU-8 Developer
级别 工业级
计量单位
类别 无机酸
用途 微流控芯片
主要用途 微流控芯片
执行质量标准 企标
含量 **
用途类别 标准品
外观性状 液体
品牌 microchem
型号 SU-8 Developer

SU- 8 developer显影剂是一个高对比度,环氧基光刻胶专为微加工和微电子等的应用需要的厚胶,化学和热稳定的图像. SU-8 2000是一种改进的配方的SU- 8,SU-8已被广泛用于通过MEMS制造多年。使用更快的干燥技术,极性更大的溶剂的系统改进了涂层质量,并增加了处理量. SU- 8 developer显影剂有12个标准粘度. 膜厚度的0.5到> 200微米可以通过一个单一的涂层过程实现。曝光和随后的膜热交联的部分不溶于液体显影剂。 SU- 8 2000有**的成像特性,并能产生非常高的纵横比结构。 SU- 8 2000具有非常高的光传输性高于360纳米,这使得它非常适合在很厚的薄膜附近的垂直侧壁成像。SU-8 2000很适合**性应用中成像,固化并留在设备上.

SU- 8 developer显影剂特点:
? 高纵横比成像
? 0.5至>200μm的膜厚在单一的涂层
? 改进涂料性能
? 快速干燥增加处理量
? 近紫外线(350-400nm)的处理
? 垂直侧壁

 

SU-8操作参数:
新型的化学增幅型负像SU-8光刻胶克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题,十分适合于制备高深宽比微结构,因此SU-8胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶。它在近紫外光(365nm- 400 nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致,可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形;它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性;SU -8在受到紫外辐射后发生交联,是一种化学扩大负性胶,可以形成台阶等结构复杂的图形;且SU-8胶不导电,在电镀时可以直接作为绝缘体使用。由于它具有较多优点,SU -8胶正被逐渐应用于MFMS、芯片封装和微加工等领域。直接采用SU -8光刻胶来制备深宽比高的微结构与微零件是微加工领域的一项新技术。
 
SU-8光刻胶的光刻工艺:
将SU-8光刻胶组分旋涂在基材上,施涂厚度几至几百微米。涂覆晶片随后在95摄氏度下干燥20分钟并随后冷却至室温。然后,将负光掩模与涂覆晶片接触并将所得组件用来自汞灯的紫外辐射在剂量250mJ/cm2,下进行成像方式曝光。然后,通过在95摄氏度下加热曝光晶片10分钟而进行热处理,或曝光后烘烤。浮雕图像随后通过将晶片在显影液中浸渍10分钟随后用水漂洗和在空气中干燥而显影。

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